编号：FTJS04449
篇名： 氧化铝薄膜对硫钝化InP材料光学稳定性的影响
作者： 田珊珊； 魏志鹏； 赵海峰； 高娴； 方铉； 唐吉龙； 楚学影； 方芳； 李金华； 王晓华； 李梅； 马晓辉；
关键词：InP； 光致发光； 硫钝化； 表面态密度； Al2； O3； 薄膜；
机构：长春理工大学理学院； 长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室；
摘要： 利用原子层沉积法(ALD)在硫钝化后的n型InP表面沉积Al2O3薄膜进行二次钝化处理。通过光致发光(PL)测试和原子力显微镜(AFM)测试对样品的光学性质及表面形貌进行表征。硫钝化能够有效降低样品的表面态密度及无辐射复合几率,因此样品PL发光强度得到了极大提高。而样品表面的Al2O3可防止钝化层被氧化,尽管相对于沉积Al2O3薄膜前样品的光致发光强度有所降低,但样品的稳定性得到了改善,因此可进一步提高样品的发光性能。