编号：CPJS03743
篇名： 基于氧化铝模板原位制备Ni/Al-LDHs薄膜的工艺及性能研究
作者： 杜宝中 ;杨渝 ;杨国农 ;荆媛媛 ;张青
关键词：Al片 电化学阳极氧化 原位合成 水滑石薄膜 插层薄膜
机构：西安理工大学应用化学系
摘要： 采用电化学阳极氧化铝模板提供Al^3＋ ,在Ni（NO3）2 和NH4NO3溶液中采用原位生长法制备了Ni/Al-NO3-LDHs薄膜,在弱酸性条件下通过离子交换将磺基水杨酸阴离子引入Ni/Al-NO3-LDHs薄膜层间,制备了磺基水杨酸/LDHs复合薄膜,优化了工艺条件,并借助XRD、FT-IR、SEM 等手段对薄膜进行了结构和形貌分析.结果表明,磺基水杨酸阴离子成功插层于LDHs薄膜层间,层间距由0.883nm 增大为1.153nm,NO3- 离子在1384cm^-1 的特征峰基本消失,同时出现了磺基水杨酸的特征峰.SEM 照片显示,LDHs晶片垂直于Al基底生长. 电化学腐蚀和UVGVis分析表明,LDHs薄膜具有良好的耐蚀性和优异的紫外阻隔性能.