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大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究
679 2020-09-15
编号:FTJS07778
篇名: 大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究
作者: 刘剑 蔡黎明 成贤锴 顾国刚 于涌
关键词: 高精度 陶瓷导轨 超精研抛
机构:长春理工大学 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所
摘要: 为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系。首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型。然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果。最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min。在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度。