编号：FTJS01292
篇名： ALD氧化铝单层膜1064nm激光损伤特性研究
作者： 刘志超; 卫耀伟; 陈松林; 马平;
关键词：激光损伤; 原子层沉积; 损伤阈值; 损伤形态;
机构：成都精密光学工程研究中心;
摘要： 采用原子层沉积技术(atomic layer deposition,ALD)在熔石英和BK7玻璃基底上镀制Al2O3单层膜。利用小口径损伤在线测试平台对膜层的1064 nm激光损伤特性进行了实验测量,获得膜层损伤阈值约为10.3 J/cm2,对比了其与BK7基底损伤阈值之间的差异;利用Nomarski显微镜和原子力显微镜分析讨论了损伤形态的特点,结果表明损伤主要表现为膜层脱落和基片小孔烧蚀,其中小孔深度集中在70 nm~95 nm范围;讨论了损伤发生的诱因,得出膜基界面可能存在吸收源先驱的推断。